在後一種情況下，使用超純水清洗矽片，即使在矽片上沉積少量碳化合物也會嚴重影響其性能。

紫外線處理通常只是減少TOC的一部分。它可以與其他工藝配合使用，例如活性炭，超濾，反滲透和去離子

產生羥基自由基所需的短波長非常強地被水吸收（這種吸收是產生自由基的原因），並且紫外線室內的有效光程很短。因此，為減少TOC而設計的UV系統需要特殊的幾何形狀和高純度石英材料，這些材料對短UV波長部分透明。所需的紫外線劑量大大高於用於消毒應用的紫外線劑量。